技术编号：12033698
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种通过在基板的表面形成衍射光栅槽来制造衍射光栅的方法、计算出衍射光栅的衍射效率的方法、及衍射光栅。背景技术在制造衍射光栅时，例如，在基板的表面涂布抗蚀剂(resist)，对所述抗蚀剂的表面进行曝光后，进行显影，由此形成规定的抗蚀剂图案(resistpattern)。接着，通过对抗蚀剂图案进行蚀刻(etching)，在基板的表面形成对应于抗蚀剂图案的衍射光栅槽。作为对抗蚀剂的表面进行曝光的方法，例如，如下方法(双光束干涉曝光)已为人所知，此方法如下述专利文献1所述，通过从两个方向对抗蚀...
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