技术编号:12040989
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体溅射领域,特别涉及一种赛隆陶瓷靶材的制作方法。背景技术赛隆(sialon)是一种基本结构单元为(Si,Al)(O,N)4四面体材料,其常用作于陶瓷材料。赛隆陶瓷包括α-sialon(MeXSi12-(m+n)Alm+n)OnN16-n,Me为金属离子,包括钇等)和β-sialon(Si6-ZAlZOZN8-Z)两种变形体。其中,sialon陶瓷是氮化硅(Si3N4)和氧化铝(Al2O3)在高温下生成的固溶体,两种sialon陶瓷继承了氮化硅和氧化铝两种物质的晶相的特性具体高硬度、...
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