技术编号：12053019
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及无机纳米材料制备技术领域，特别是涉及一种二维黑磷纳米片及其液相剥离制备方法。背景技术黑磷是一种新型的直接带隙二维材料，其带隙可从0.3eV(本体状态)到1.5eV(单层)通过层数进行调节，因此能够吸收从可见光到通讯用红外线范围波长的光，加之其较高的载流子迁移率(厚度为10nm时可高达1000cm2˙v-1˙s-1)和较高的通断比(104)，其在半导体领域、光电以及光热等领域显示出极大的潜在优势。目前，原子层厚度的黑磷(即二维黑磷纳米片)的制备主要有三种方式：(1)机械剥离法；(2)液相...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。