技术编号：12056760
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及真空热处理设备使用氢气的方法，尤其是一种使用固态储氢材料给真空热处理设备提供氢源的方法。背景技术目前，日益发展的真空热处理技术存在零件回火颜色光亮度灰暗或者不稳定的问题。在低于650℃温度范围内，真空炉呈微氧化气氛，该温度范围正好是金属材料回火处理区域，从而导致真空回火后零件表面光亮度灰暗或不稳定。解决上述问题目前较好的措施是采用一定比例的N2、H2混合保护气，使真空炉内呈弱还原气氛，从而使零件达到光亮回火(时效)。但该方法使用气态氢，氢气属于易燃易爆气体，其存储、运输和使用存在一定的...
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