技术编号：12079053
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种旋转靶材的生产方法，具体的说是涉及一种钨钼合金旋转靶材的生产方法。背景技术TFT薄膜具有高响应度、高亮度、高对比度的优点，是众多行业基本材料之一，因此被广泛应用于太阳能电池、液晶显示器和等离子显示器领域，近年来，伴随着高档显示器的快速发展，钨钼合金旋转靶材是制备TFT薄膜的重要材料，目前，工业上广泛采用平板靶材进行镀膜，平面靶材形状有长方体、正方体、圆柱体和不规则形状，长方体、正方体和圆柱形靶材为实心，溅射过程中，圆环形永磁体在靶材表面建立环形磁场，在轴间距等距离的环形表面上形成刻...
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