技术编号：12099353
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及真空镀膜技术领域，特别是涉及真空镀膜方法和真空镀膜治具。背景技术真空镀膜是一种物理气相沉积(PVD，PhysicalVaporDeposition)制备功能薄膜的方法，其基本原理是在真空室内材料的原子在电磁场作用下从靶源离析出来打到被镀物表面上，其被广泛应用在各种元器件的表面处理上。一般来说，元器件的外壳或者表面通常采用两种材料拼接而成，传统工艺将两种材料分开做镀膜处理后再进行结合，即首先对单一材料分别进行真空镀膜后，再将镀膜后的两种材料相拼接。这样生产的材料的外观一致性较差，不同材料...
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