技术编号：12099384
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于薄膜制备技术领域，尤其涉及静止或移动的长带状金属衬底上的高温环境薄膜制备，可用于溅射、蒸发、PLD、MOCVD等薄膜制备工艺，具体为一种用于高温薄膜沉积的加热装置。背景技术在薄膜制备领域中，为了实现薄膜的控制生长，进而达到控制薄膜物理化学性质的目的，通常需要给薄膜生长所附着的衬底加热。许多厂家和研究机构都在集中精力设计更为优越的反应室，为配合反应室设计，加热器也必须做出相应的改进。由于腔体内气体反应对于温度有严格要求，所以必须研制具有温度均匀、升温降温速度快、稳定快、可重复好等特点的高...
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