技术编号:12100694
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于无机纳米材料制备领域,具体涉及一种基于金属介入的金属热还原制备纳米硅的方法。背景技术具有纳米结构的硅在新能源材料、太阳能、微电子、生物化学、环保等方面具有广阔的应用前景。传统碳热还原能够获得纯度较高的冶金硅,然而,由于这种反应温度往往在1400度以上,因而难以获得广泛适用的纳米级硅材料。目前,制备纳米硅材料的方法主要有化学或电化学刻蚀、急速冷却、激光烧蚀、四氯化硅还原和硅烷热解法。这些制备方法普遍具有高成本、设备复杂、高毒性和产率低的缺点,不利于大规模生产制备纳米硅材料。金属热还原硅被...
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