技术编号:12114740
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及原子磁力仪制备技术领域,特别是涉及一种提高原子磁力仪弛豫时间的装置。背景技术在现有技术中,为了减小铯原子与吸收室器壁碰撞造成的能级改变,在吸收室内壁镀高分子材料,例如聚四氟乙烯。此类材料的分子量远大于铯原子,与铯原子的碰撞类似弹性碰撞,减小了铯原子通过碰撞改变能级的几率。常用的铯吸收室规格为25mmx25mm,但是由于铯吸收室内壁镀层的方法工艺复杂,批量生产时很难保证镀层厚度,镀层质量的一致性差。因此,急需一种能够在吸收室同样可以达到内部镀层效果的装置,而且制造工艺简单,实现批量生产。...
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