技术编号：12116372
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明实施例属于曝光设备技术领域，尤其涉及一种曝光机及其图像偏移防治方法和系统。背景技术在黄光制程中，玻璃基板在经过涂胶机涂布光阻之后，会进入曝光机进行曝光，以使玻璃基板表面被光阻覆盖的部分能够形成光阻图像。在实际使用过程中，曝光机的载物台上若存在异物，则会导致放置在载物台上玻璃基板在有异物的地方局部隆起，从而导致获得的光阻图像产生局部偏移，降低黄光制程中经光刻蚀得到的玻璃基板的良品率。曝光机台上的异物通常是因曝光机的升降杆的轴承磨损而掉落的残渣，为了防治曝光机的轴承磨损，现有的检测方法通常是依...
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