技术编号：12120949
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种加工成适于用波长250nm以下的曝光光进行图案转印的光掩模的光掩模坯。背景技术出于如微电子器件高操作速度和节约能耗的目的，大型集成电路向更高集成度的挑战仍在继续。为满足持续增长的对于电路图案缩微的需求，先进的半导体微处理技术变得重要。例如，构成电路的线路图的缩微技术和用于构成单元的层间连接的接触孔图案的缩微技术变得必要。先进的微处理技术依赖于使用光掩模的光蚀刻技术。像光刻系统和抗蚀剂材料一样，光掩模是微型化技术的一个重要领域。为了得到具有细径线路图或细径接触孔图案的光掩模，而致力于...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。