技术编号：12129234
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种等离子体系统。背景技术等离子体系统常用于工业中执行多种半导体工艺。例如，等离子体系统已经用以清理晶圆表面的污染、沉积材料层、用于蚀刻、用于离子布植，及用于等离子体掺杂。数百个晶圆可在给定一日内经受给定的工艺步骤。因此，等离子体系统的任何状况或是问题皆会对每一晶圆的良好芯片数目具有显著影响。测量等离子体中离子数目的特殊检测器(有时被称作剂量计)可用以测量工艺期间的等离子体离子分布。可监测离子分布以决定是否需要令等离子体系统离线以便进行重新调整。发明内容本发明的一实施方式为一种等离子体...
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