技术编号：12129246
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及离子源，特别涉及离子束强化装置及方法。背景技术离子束喷射强度是由离子束形成的长度、速度与喷射管径决定，即在合理的进气速率与喷射管径下，输出很强的离子束，实现高效的放电气体利用效率。目前解决离子束强度优化的方法：1)减小喷射管径直径，该方法使得喷射的离子束加有较高的速率，但是离子束密度与单位截面的离子数总量减少，从而降低了离子束强度，且在相对较快的气体流速下，可能会导致放电不充分；2)减小进气速率，该方法适用于多样品连续进样环境，但会使得离子束密度减小，导致离子束强度不高。发明内容为解决...
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