技术编号：12141672
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明针对一种用于在曝光装置中使用以用于照明表面的曝光头，该曝光头包含：一或多个辐射源，其用于提供一或多道射束；光学扫描单元，其经配置以用于接收该一或多道射束且用于朝向该表面指引射束以用于使射束中的每一个撞击于撞击光点上。本发明进一步针对一种曝光装置及一种操作用于照明平面表面的曝光头的方法。背景技术习知无光罩曝光系统常常使用单一雷射及扫描光学器件来朝向基板上之不同位置偏转射束。存在通常发生且并非总是在不同系统中解决的一些重要之偏转副效应。举例而言，此等效应包括引起不完全平坦基板上之位置误差的倾斜...
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