技术编号:12153061
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于粉末冶金技术领域,特别涉及一种强磁场热压制备金属靶材的装置及方法。背景技术磁控溅射是制备薄膜的最常用手段。高品质的薄膜,除了高纯度、高密度外,薄膜中各处的组织结构、厚度及性能也要均匀一致。研究表明,靶材溅射速率均匀一致,才能获得起伏度小、厚度均一的高品质薄膜。溅射用靶材的微观结构对靶材的溅射性能有显著影响。溅射的薄膜越薄,影响越明显。研究表明只有靶材中的晶粒具有均一的尺寸和一致的取向(强织构),才能获得平稳均匀的溅射速率,从而得到高品质的薄膜。磁控溅射靶材的密度、纯度技术都已经取得了长...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。