通电的静电法拉第屏蔽用于修复ICP中的介电窗的制作方法与工艺技术资料下载

技术编号:12159787

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本公开内容涉及关于在电感耦合等离子体(ICP)处理室中修复介电窗的发明。背景技术半导体技术提出了许多的挑战,并且改善仍然是必要的。发明内容本发明公开的各种实施方式,包括一种在等离子体处理室中使用的具有多个电引线的静电屏。提供多个瓣状件组,每一个瓣状件组包括基本平的结构,其中每个瓣状件组电连接到所述多个电引线中的至少一个电引线,并且其中每个瓣状件组与任何其他瓣状件组绝缘,其中所述多个瓣状件组形成围绕垂直轴的径向对称。每个基本平的结构包括导电环的一部分和多个导电瓣状件,每个导电瓣状件连接到所述导电环...
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