技术编号：12168638
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种基板处理装置及基板处理方法，更详细地说涉及一种能够在基板上蒸镀薄膜的基板处理装置及基板处理方法。背景技术在一般的基板处理装置中，作为安放基板的基座与用于供应工艺气体的喷头之间的间隔的即间隙的调节、及基座的倾斜度调节对于在基板上蒸镀薄膜而制造优良半导体元件来说，是非常重要的因素。通常，基座的倾斜度在固定的一个基准高度下通过手动设定。但是，需要根据薄膜的种类调节基座的高度，这种情况下，当调节基座高度时，可能会导致基座倾斜度的变更。并且，虽然需要根据薄膜的种类而调节基座的倾斜度，但通过以...
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