技术编号：12174651
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明主要涉及磁共振成像技术领域，尤其涉及一种用于磁共振成像系统的梯度涡流校正方法和装置。背景技术在磁共振成像过程(magneticresonanceimaging,MRI)中，梯度线圈中的电流随时间快速切换，会在周围导体结构中产生涡流，涡流会产生一个空间和时间上都不断变化的磁场，使成像区域内的梯度磁场发生畸变，最终影响MRI图像质量。为了消除涡流对梯度磁场的影响，一种方法是以产生反向梯度磁场的附加线圈作为自屏蔽线圈，通过减少线圈与磁体之间的相互作用，以抑制涡流的产生。但是这种方法不能完全消除在...
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