技术编号：12180204
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于喷嘴制造领域，尤其涉及一种清洗液喷嘴。背景技术制造半导体元件或LCD,PDP,OLED等平板显示元件时，通常需要反复执行photoLithography工程等蚀刻工程。另外，进行photoLithography工程及蚀刻工程时必然会残留蚀刻副产物等不纯物质。为了除掉此类蚀刻不纯物，在半导体元件、平板显示元件制造上必须进行清洗工程。一般清洗工程分为，利用清洗溶液的化学型清洗方法和利用机械设备的物理型清洗方法。将上述化学型清洗方法加以详细说明的话，就是在所定清洗设备内安装半导体基板或玻璃基...
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