技术编号：12234624
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及PECVD设备领域，更具体的说涉及一种用于制备氮化硅膜的PECVD设备。背景技术目前，PECVD设备一般采用管式PECVD系统，反应气体采用硅烷和氢气，管式PECAD系统的气流从石英管的一端引入，这样会造成气体分布不均匀。实用新型内容本实用新型的目的是提供一种用于制备氮化硅膜的PECVD设备，能够将反应气体进行充分的混合，得到稳定的气体混合比，从而得到稳定折射率的氮化硅膜。本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种用于制备氮化硅膜的PECVD设备，具有石英反应管、向...
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