技术编号：12247132
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种PCB制程中显影槽清洗剂，尤其是应用在集成电路、印刷电路板、载板、软硬结合板的DES显影制程，内、外层显影制程，液晶显示器等工艺中。背景技术光致抗蚀剂是用来将图像转印到基材上的光敏性薄膜，在基材上形成光致抗蚀剂涂层，然后所述光致抗蚀剂层通过光掩膜在活化辐射源下曝光。在活化辐射下的曝光为光致抗蚀剂涂层提供了光诱导化学转化，从而将光掩膜的图形转印到光致抗蚀剂涂覆的基材上。曝光后，对所述光致抗蚀剂进行显影得到浮雕图像。例如在集成电路、印刷电路板、载板、软硬结合板的DES显影制程，内、外层...
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