技术编号：12251536
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明大体涉及用于以图案沉积材料的方法和设备。背景技术诸如电子射束系统、离子射束系统、激光射束系统、团簇射束系统和中性粒子射束系统的射束系统被用于通过刻蚀或者沉积材料创建表面上的特征。聚焦射束被用于从样品移除材料，并将材料沉积到样品上。材料能够通过溅射而被移除，其中，射束中的粒子的动量物理地从样品表面撞击原子或分子。粒子或者激光射束可以被用于诱导化学反应。在一些情况下，射束诱导前体气体的分解。前体气体优选地是稳定的，从而其不与远离射束碰撞区域的工件反应。沉积或者刻蚀的分辨率由射束直径以及射束和工...
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