技术编号:12265249
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光学元件检测技术领域,尤其涉及一种非球面元件面形检测装置及检测方法。背景技术现代光刻技术要求光刻物镜系统中的平面、球面、非球面等光学元件的面形误差均方根达到亚纳米量级。当今前沿的光学加工和检测技术已可以方便地支持球面镜和平面镜实现亚纳米量级面形精度。然而,非球面镜的高精度面形加工和检测技术仍然比较困难复杂,针对不同的非球面镜通常采用不同的检测方法和检测装置,而零位补偿法是实现非球面镜面形误差的高精度检测最常用的技术。利用零位补偿法检测非球面镜面形误差时,零位补偿系统的X/Y/Z平移位置...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。