技术编号:12270303
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。一种电子式HF升降温系统[技术领域]本发明涉及半导体制造技术领域,具体地说是一种电子式HF升降温系统。[背景技术]半导体制造过程中,RCA清洗/蚀刻工序中必须使用恒温恒浓度的化学品(如HF,AL-E等),用来控制清洗/蚀刻的效果保持稳定一致。随着半导体制造工艺的进步,对允许的温度范围要求越来越严格,基本上从原来的23±3℃提升到23±1℃。目前大多数的清洗用高纯度化学品都在化学槽中使用石英管/不锈钢加热器加热、使用压缩冰机/工厂冷却水进行冷却。通常来说,加热过程和冷却过程不能使用共通的管路和热交...
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