技术编号:12274827
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体制造领域,具体涉及大规模集成电路生产过程中在线对多晶硅栅极刻蚀的能力进行快速和准确的检测;更具体地说,本发明涉及一种检测多晶硅栅极刻蚀能力的方法。背景技术一颗芯片的制作工艺往往包含几百步的工序,主要的工艺模块可以分为光刻、刻蚀、离子注入、薄膜生长和清洗等几大部分,在实际的生产过程中任何环节的微小错误都将导致整个芯片最终电学性能的失效。随着器件关键尺寸的不断缩小,其对工艺控制的要求就越来越严格,所以在生产过程中为能及时的发现和解决问题都配置有光学和电子的缺陷检测设备对产品进行在线的...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。