一种激光横模模式可调控被动调Q微片激光器的制作方法与工艺技术资料下载

技术编号:12276420

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本发明涉及激光器,尤其是涉及一种激光横模模式可调控被动调Q微片激光器。背景技术激光横模因其光强分布的多样性受到人们的广泛关注。除了常见的基模高斯光束之外,激光器还可以输出许多高阶的激光模式,例如常见的有拉盖尔-高斯(LG)模式、因斯-高斯(IG)模式和厄米特-高斯(HG)模式,它们分别是自由空间近轴波动方程在圆柱坐标系、椭圆坐标系和直角坐标系和上的准确正交解。这些高阶模式因其光斑形状的多样性在光学俘获[1,2]、操纵微粒和生物细胞[3,4]、制备涡旋光束和涡旋阵列[5,6]等领域有广泛的应用。理...
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