技术编号：12285565
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本说明书涉及静电金属多孔体形成装置和使用所述装置的静电金属多孔体形成方法。背景技术具有开放单元结构的多孔体衬底可以涂敷有包含附加合金组分的金属粉末。相应地，可以改进其机械特性，而诸如分离或过滤之类的效应可能下降。因此，从精细孔和网的内部表面获得的表面粗糙度可能不足以用于诸如分离或过滤之类的期望效应。为了解决该问题，可以执行适宜的表面涂敷方法。例如，可以执行化学气相沉积（CVD）或物理气相沉积（PVD）。然而，在使用CVD的情况下，金属粉末被非均匀地涂敷，使得不易于在一般开孔体积中执行形成过程。公...
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