技术编号：12287400
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及根据专利权利要求1的方法以及根据专利权利要求8的相对应的装置。背景技术纳米印压光刻技术（NIL）为造型方法，在其中纳米结构由以能够硬化的材料、例如漆的压模来造型。在此不仅可实现造型大量的纳米结构系统，而且可实现通过分步重复或滚动方法（Rolle-Verfahren）来在大的面上制造高精密的纳米结构。由此能够执行高分辨率的表面结构。在原理上人们将热的NIL（hot-embossingNIL）和基于UV（紫外线）的NIL方法之间区分开。由于光阻漆的粘性，通过毛细作用将压模的中间空间完全填满...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。