技术编号：12287406
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及抗蚀材料、包含该材料的抗蚀组合物、以及使用该组合物的抗蚀图案形成方法。背景技术截止至今的普通抗蚀材料是能够形成非晶薄膜的高分子系材料。例如，通过将聚甲基丙烯酸甲酯、具有酸解离性反应基团的聚羟基苯乙烯或聚甲基丙烯酸烷基酯等高分子抗蚀材料的溶液涂布在基板上而制作抗蚀薄膜，对该薄膜照射紫外线、远紫外线、电子射线、极紫外线(EUV)、X射线等，从而形成45～100nm左右的线图案。然而，高分子系抗蚀剂的分子量大至1万～10万左右、分子量分布也宽，因此使用高分子系抗蚀剂的光刻中，微细图案表面产生...
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