技术编号：12287407
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。二次电子发生组合物引言本发明涉及组合物，特别是二次电子发生组合物(“SEG组合物”)，并且具体涉及用于在电子组件的生产中使用的抗蚀剂组合物(例如，通过电子束光刻)。本发明还提供用于制备抗蚀剂组合物的方法、涂覆抗蚀剂的材料和用于其制备的方法、曝光的涂覆抗蚀剂的材料和用于其制备的方法、图案化衬底和用于其制备的方法、被镀衬底和用于其制备的方法、电子组件以及抗蚀剂组合物、涂覆抗蚀剂的材料、曝光的涂覆抗蚀剂的材料、图案化衬底或被镀衬底的各种用途。背景由于本领域的技术人员所熟知的各种原因，持续地驱动电子工业...
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