技术编号:12328632
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及显示面板膜层的制作领域,特别是一种掩膜版的清洁方法及清洁装置。背景技术显示领域,曝光是TFT面板制作中最重要的环节。曝光实现了掩膜版掩膜版上图形向光刻胶PR的转移,PR形成图案后,对基板上的膜层进行相应的刻蚀,膜层上就有了图形。掩膜版掩膜版是曝光中重要的工具,掩膜版掩膜版的好坏决定后续TFT基板上电路的好坏。随着掩膜版掩膜版使用时间变长,其表面会沉积肉眼可见以及不可见的污渍。随着曝光设备的老化,掩膜版掩膜版表面甚至会沉积油性污渍,导致图形转移到基板上出现重复性的不良,给生产带来巨大的损...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。