技术编号:12355822
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及涂胶清洗装置技术领域,具体涉及一种涂胶头清洗装置。背景技术黄光制程广泛地用于半导体光刻和显示器面板光刻工艺中,黄光制程的主要过程包括涂胶、曝光、显影三大部分,其中涂胶是个极为重要的环节,涂胶机的状态对产品质量有着较大的影响。目前,在清洗头装置(WashHead)对涂胶头(Nozzle)的清洗过程中易产生稀释液(Thinner)外溅的情况,导致气缸轨道的脏污,影响清洗头装置的正常运作。如图1所示,现有的涂胶头清洗装置的结构为:包括位于所述涂胶头10下方并用于清洗所述涂胶头10的清洗头装置...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。