技术编号：12369844
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种半导体制造技术，且特别是涉及一种自动监控膜厚均匀性的方法。背景技术在半导体工业领域，为了对所使用的材料赋与某种特性而在材料表面上以各种方法形成一层薄膜。而成膜机台所形成的薄膜的膜厚均匀性会直接关系到产品的良率和薄膜的品质。当制作工艺机台开始老化，而造成膜厚数据及膜厚分布产生些微变化，上述些微变化很可能是造成产品品质产生异常的因素。然而，目前现有技术尚无法有效且及时地得知膜厚分布发生些微变化。发明内容本发明的目的在于提供一种自动监控膜厚均匀性的方法，可有效地及早发现异常。为达上述目的...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。