技术编号：12370189
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种全反射阵列基板及其制作方法和显示装置。背景技术目前的全反射阵列基板的制作过程中，在沉积完最后一层ITO层后，需要再沉积一层金属反射层(金属反射层在膜层的最上面，有利于提高反射率)，金属反射层的构图过程包括光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀、剥离光刻胶等步骤，在刻蚀步骤中，由于ITO的致密性不够，在阵列基板的外围区域的过孔处，用于刻蚀金属反射层的刻蚀液会透过过孔内的ITO层，造成过孔处下面的金属腐蚀，从而降低了全反射阵列基板的生产良率。发明内容有鉴于此，本发明提供一种...
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