技术编号:12390699
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于非晶氧化钼纳米材料制备技术领域,具体涉及一种利用氧化少层硫化钼制备非晶氧化钼纳米片的方法。背景技术氧化钼纳米片是一种新型的气体传感、生物检测和催化的纳米材料,是目前理想的二维纳米材料。低廉的、高活性的、高灵敏度的氧化钼在能源转化、光学器件、电学器件等领域有重大的应用前景。然而,由于非晶氧化钼纳米片高活性且易于聚集,故在制备非晶氧化钼时采用化学气相沉积(MadeleineDiskus,OlaNilsen,etal.J.Vac.Sci.Technol.A,2012,30,01A107-1)...
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