技术编号:12400862
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及半导体制造领域,特别涉及用于处理工艺尾气的尾气处理装置。背景技术在半导体器件制造过程中,需要用到各种气体参与化学反应。由于通入反应腔的气体不可能被完全消耗掉,经常还残留有尾气,因此必须通过尾气处理装置(LocalScrubber)对尾气进行处理,以避免污染环境或产生其他危害。就半导体尾气的处理方法而言,目前大致分为湿式法、吸附法、加热分解法及燃烧法等4种方法;其中,燃烧法即将助燃气体(如压缩空气、H2)通入燃烧室内燃烧,将尾气燃烧去除,最终达到符合规定的排放指标后再排出。但是,目前...
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