技术编号：12415718
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及真空镀膜技术领域，特别涉及一种高效紧凑型磁控镀膜装置及方法。背景技术目前，对较大面积玻璃工件的镀膜加工，一般采用直线型真空镀膜设备，即多个真空室及工件进出片平台、出片台采用直线式一字排开，基片从多个真空室的一端送入，镀膜完成后，从多个真空室的另一端送出；同时，在这种镀膜设备中，一般采用平面靶对工件进行镀膜。在实际加工生产中，这种结构的镀膜设备往往存在以下缺陷：(1)传统的平面靶为一字型结构，其面积较小，当待加工基片面积较大时，需要采用多个平面靶拼接使用，但多个平面靶拼接在一起时会有电场...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。