技术编号：12415746
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及薄膜监控领域，特别涉及一种制备多层膜元件过程中非灵敏层误差控制方法及装置。背景技术近年来，随着光学科学技术的不断发展，对薄膜元件的性能指标要求越来越高，薄膜元件膜系设计与制备变得越来越复杂，对沉积工艺精度要求越来越高。尤其在多层膜元件从膜系设计到制备工艺实现的复杂度和难度非常之高，在一些条件下比较复杂的多层膜元件的膜层数通常达到几十层甚至上百层。并且在这些膜系大多是非规整膜系，如何实现在多层膜中薄膜厚度的精确控制成为能否成功制备多层膜元件的关键。通常情况下，薄膜研制人员采用晶控法或光控...
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