技术编号:12430241
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属于胶板制造领域,具体的说是涉及一种胶板制备的静置氧化室。背景技术在胶板的制备过程中,经过初级压大片之后需要将大片放置在0-40℃的环境中静置氧化两天到三天,夏天天然炎热或者是冬季天气气温极低的情况下对静置氧化有很大的影响,会直接影响胶板的质量,使得胶板容易断裂等。发明内容为了解决上述问题,本实用新型提供了一种可以保持一定的温度、湿度的静置氧化室。为了达到上述目的,本实用新型是通过以下技术方案实现的:本实用新型是一种胶板制备的静置氧化室,包括设置在氧化室内的数层放置胶板的支撑架,在氧化...
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