技术编号:12450138
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。合成石英玻璃基板的制备方法相关申请的交叉引用本非临时申请在35U.S.C.§119(a)下要求于2015年6月10日在日本提交的专利申请No.2015-117442的优先权,由此通过引用将其全部内容并入本文。发明内容本发明涉及合成石英玻璃基板的制备方法,该合成石英玻璃基板可用作用于先进的半导体相关的电子材料的制造的纳米压印光刻掩模基板、用于液晶面板显示器的制造的光掩模基板、和用于准分子激光光刻、典型地ArF准分子激光光刻、尤其是ArF浸没式光刻的光掩模。背景技术VLSI电路中较高水平的集成度已导...
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