技术编号：12451810
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及激光应用领域和光谱测量领域，特别涉及近边X射线吸收谱仪。背景技术X射线透过物质时光强会减弱，产生吸收，吸收光谱不是单调变化的曲线，会在某些位置出现吸收突变，这些吸收光谱发生突变位置称为吸收边，而吸收边对应的能量为原子内壳层电子电离阈。由于受附近其他原子影响，吸收边前后形成了一系列振荡峰，解析这段吸收谱就可以获得吸收原子附近原子簇的几何结构。吸收边前后约50eV的区域称为近边结构，近边X射线吸收精细结构(NearEdgeX-rayAbsorptionFineStructure，NEXAF...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。