技术编号：12454515
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于纳米制造技术领域，具体涉及一种基于相场模型利用激光控制硅基表面形态的研究方法。背景技术近年来，各个学科领域都坚持不懈的尝试着各种新的科学技术来设计和制造纳米结构硅基表面形态，并将其应用到各种微型机械装置当中，例如：传感器、谐振器等。截止目前，对于如何控制纳米结构硅基表面形态的研究仍然是一片空白。国内外的研究只是简单的描述了热处理作用下硅原子发生热扩散运动，从而形成硅基表面形态。近年来，国内外学者致力于利用数学模型来分析和设计纳米结构硅基表面形态，但是早期的研究都是基于一维和二维的数学模...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。