技术编号：12464653
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。：本发明涉及一种光栅位移测量系统，具体涉及一种外差式二/三维光栅位移粗/细测量系统。背景技术:光栅位移测量技术最早起源于19世纪，从20世纪50年代开始得到了迅猛的发展。目前，光栅位移测量系统已经成为一种典型的高精度位移量测手段，并被广泛应用于众多的光机电设备中。光栅位移测量系统因具有分辨力高、精度高、成本低、环境敏感性低等优点，不仅在工业和科研领域取得了广泛应用，更被国内外学者和科研机构所研究。在半导体技术、纳米技术以及生物科技等领域中，精密位移测量系统及位置定位系统起着至关重要的作用。无论是...
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