技术编号：12477770
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及带电粒子束显微镜领域，尤其涉及一种磁透镜及激励电流控制方法。背景技术对于电磁透镜，通常是通过改变激励线圈中的电流来改变电磁透镜的聚焦特性；但是，由于激励线圈具有一定的电阻，因此，在激励线圈中的电流发生改变时，电磁透镜的温度也发生变化；温度的变化会导致导磁壳体和透镜极靴等结构的热变形和导磁材料的磁导率发生变化，进而影响电磁透镜的磁场分布，如：磁透镜结构的热变形会导致磁场分布不均匀，导磁材料的磁导率的变化会影响磁场强度的大小等。为了控制电磁透镜因发热引起的温度变化，第一种解决方案是使用水冷...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。