技术编号:12477875
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种DARC薄膜的低温沉积方法。背景技术抗蚀剂在曝光过程中由于其折射率和基底材料折射率不匹配,在基底表面产生的反射光和入射光相互干渉而形成驻波。光强的驻波分布使抗蚀剂内部的光敏化合物(PhotoActiveCompound,PAC)的浓度也呈驻波分布,从而使抗蚀剂在显影后边缘轮廓有一定的起伏。抑制驻波效应的方法有很多,采用抗反射涂层(AntiReflectiveCoating,ARC)是目前应用较广泛的工艺,图1为现有技术中用于消除驻波效应的典型光刻结构,采...
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