技术编号:12485460
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明的各方面和实施方式涉及气体供给系统、气体供给控制方法和气体置换方法。背景技术在利用处理气体的等离子体等对半导体晶片等被处理体进行处理的处理装置中,已知有对向处理装置的处理气体的供给进行控制的气体供给装置。在这样的气体供给装置中,包括对气体的流量进行控制的流量控制装置和对气体的供给与供给停止进行控制的多个阀等构成部件。这些构成部件由使气体流通的配管连接,配置在基座的同一面上。另外,有时将流量控制装置和阀等构成部件间配置在基座的同一面上,将相邻的构成部件间由通过基座的内部的配管连接。由此,能够...
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