技术编号:12498224
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型是关于一种加热器模块,特别是关于一种使用加热器模块制备高质量薄膜的薄膜沉积装置。背景技术化学气相沉积(ChemicalVaporDeposition,CVD)装置可分为热壁式(hot-wall)沉积装置及冷壁式(cold-wall)沉积装置。由于冷壁式沉积装置可通过沉积时间的改变而调控薄膜成长的层数,且具有膜厚均匀性佳等优点,故相较于热壁式沉积装置更适合用来制备奈米尺度的二维层状材料。然而,传统的冷壁式沉积装置仅对基板进行加热,故不同管路的反应气体需到达基板表面才有足够的热源进行化学反...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。