技术编号：12512277
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。制造光刻结构的光学系统相关申请的交叉引用本专利申请要求德国专利申请DE102014220168.3的优先权，其内容通过引用并入本文。技术领域本发明涉及一种制造光刻结构的光学系统。此外，本发明涉及一种在这样的光学系统中确定相对于预览场位置的写入场位置的相对坐标的方法，以及一种使用这样的光学系统制造光刻结构的方法。背景技术一开始提出类型的光学系统从US2013/0221550A1和US2013/0223788A1已知。DE10315086A1已经公开了一种用于在制造半导体时对准半导体晶片的方法和设备...
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