技术编号：12514489
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及半导体生产技术领域，特别是涉及一种适于对低K材料的晶圆表面进行清洗的清洁装置。背景技术随着半导体工艺的发展，尤其是40nm以及28nm阶段，为了获得更低的信号延时和高性能的响应特性，更多的选择lowK(低介电常数)材料，但是lowK材料致密度较差。例如M1(第一金属层)--BD(BlackDiamond，黑钻石)薄膜，其表面分子结构间缝隙较大，呈蜂窝状，亲水性较强，因此，当其表面有一些颗粒缺陷会影响产品良率，却无法使用水或其它液体清洗。目前，传统的清洁方法主要是采用湿法负离子水的洗...
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