技术编号:12532935
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及清洗装置技术领域,尤其涉及一种硅片用清洗装置。背景技术太阳能光伏行业晶体硅电池的制作过程中会产生含有较高磷浓度的硅氧化层,被称为磷硅玻璃,简称PSG,在硅电池生产时,要进行酸洗将该硅氧化层去除,简称去PSG。目前,传统的清洗设备在清洗时,每个清洗槽内都需要使用纯水,对硅片进行清洗,因此累计使用纯水的量较大,水浪费严重,也提高了生产成本。根据中国专利申请号为201320306796.4公布的一种硅片清洗槽,包括清洗槽本体和水泵,所述清洗槽本体的侧壁内部成型有腔体,所述腔体内设有垂直隔...
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